氣氛爐是**于氮化硅反應燒制的真空電爐。 氮化硅燒結爐由電爐體，加熱系統，升降系統，冷卻系統，充放電系統和電控系統組成。 氮化硅反應器由爐內溫度，充放電氣體的類型和速度，爐中的比例和游離硅的量反映形成氮化硅。 氮化硅是一種具有良好性能的新型材料。

氣氛爐適用于在高壓氮氣氛中燒結諸如氮化硅的材料。 有利的是提高材料的燒結密度并改善材料的機械性能。 壓力燒結爐具有優異的微觀結構，強度和密度。 可實現連續差壓脫脂，真空燒結和壓力燒結工藝; 具有氣氛調節功能，爐內氣氛穩定，產品質量易于控制; 爐內分壓控制實現恒壓燒結。

氣氛爐可手動控制燒制過程，如手動控制溫升，降溫，充放電等參數，確保氮化硅的質量和數量。 為了降低勞動力成本，氮化硅反應器的用戶可以使用自動燒結工藝自動生成氮化硅。

氣氛爐技術特點：

1.采用特殊的高溫紅外測量技術，溫度控制準確，誤差小。

2，采用特殊的廢氣處理裝置，環保，易清洗。

3，采用電阻加熱，設定溫區補償或多區溫度控制，溫度均勻性好。

4.采用科技*有的高溫大電流上電技術，可在2400°C的溫度下長期穩定使用。

5，可選配脫脂系統，實現陶瓷產品脫脂和燒結的一次性處理。

6.爐子配有**的密封馬弗爐。 產品生產的硅蒸汽等副產品對加熱器和絕緣材料幾乎沒有污染。